中国顶尖设计公司已经采用28纳米尖端技术开发芯片，而本地9.2％无晶圆厂半导体公司亦采用先进的45纳米或以下的工艺技术进行设计及大规模量产。这是昨日记者从环球资源“中国IC设计公司成就奖颁奖典礼”上获得的信息。
“十年前我们首次进行‘中国设计公司调查’时，只有20％的中国设计公司采用0.25微米或以下的工艺技术，反之超过72％的美国同业已经采用0.18微米或以下的工艺技术。即使在五年前，中国在工艺技术方面的发展相比美国依然落后最少两个时代。”环球资源旗下企业联盟出版的《电子工程专辑》出版人石博廉先生称，过去十年，他见证了中国设计行业的迅速崛起及高速发展。